En semiconductores, el problema clave es la AMC (Airborne Molecular Contamination).

AMC generada por el proceso Gases reactivos como diborano, fosfina o HF afectan cámaras y superficies. Impacto directo en yield y estabilidad del proceso.

Contaminación exterior SO₂, NO₂ y ozono pueden entrar por MAUs y HVAC. Riesgo de corrosión y contaminación de capas finas.

Sensibilidad extrema del entorno Procesos muy intolerantes a variaciones químicas. Necesidad de controlar aire de sala y aire de herramienta.

Dificultad de detección AMC no detectable con monitorización convencional. Necesidad de CCC, OnGuard y analíticas MLA.